電鍍電源是将(jiāng)工頻交流電變換為不同電壓、頻率和波形的直流電設備。在晶閘管整流器中主(zhǔ)要應用“整流”技術，在(zài)高頻開關電源中既應用(yòng)“整流”技術又應(yīng)用“逆變”技術。電鍍電源主要由主電路和控制電路組(zǔ)成。
适用(yòng)于電鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、鍍銅、鍍镉等有色金屬；鍍金、鍍銀等貴重金屬的精(jīng)密電鍍。
1．降低孔隙率，晶核的形成速度大于成長速度(dù),促使晶核細化。
2．改善結合(hé)力，使鈍化(huà)膜擊穿,有利于(yú)基(jī)體與鍍層之間牢(láo)固的結合。
3．電鍍電(diàn)源改善覆(fù)蓋能力和分(fèn)散能力，高的陰極負電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,減緩形态複雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦(jiāo)”“樹枝狀”沉積的缺陷，對于獲得一個(gè)給定特性鍍層(如顔色、無孔隙等)的(de)厚度可減(jiǎn)少到原(yuán)來1/3~1/2,節省原材料。 4．降低鍍層的内應力(lì)，改善晶格缺陷、雜質、空洞、瘤子等,容(róng)易得到無裂紋的(de)鍍層，減少添加(jiā)劑。
5．有利于獲得成份穩定的合金鍍層。
6．改善陽極的溶解,不需陽極活化劑。
7．改進鍍層的機械物理性能，如提高密度降(jiàng)低表面電阻和體電(diàn)阻(zǔ),提高(gāo)韌性、耐磨性、抗蝕性而(ér)且可以控制鍍層硬度。
傳統的電鍍抑制副作用的産生、改善(shàn)電流(liú)分布、調節液相傳(chuán)質過程、控制結晶取向顯得毫無作用，面對(duì)絡合劑和添加劑的研究(jiū)成(chéng)了電鍍工藝(yì)研究(jiū)的主要方向。納米開關電源解(jiě)決了(le)傳統整流器存在的缺陷。
8．提高産品成品率、産品質量。
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